图1. Al/Al2O3/Ga2O3结构的光学特性。(a)入射光在此结构中的反射的示意图,该结构包括厚度为h的Ga2O3膜、Al2O3缓冲层和金属Al。(b) Ga2O3、Al和Al/Al2O3 (5 nm)薄膜的透过、吸收和反射光谱。(c) Al和Ga2O3的折射率。PEN/Al/Al2O3/Ga2O3结构中不同Ga2O3厚度测量(d)和计算(e)的反射谱。(f) Al/Al2O3/Ga2O3结构在254 nm光照射下测量和计算的反射率随Ga2O3厚度的变化。(g)不同Ga2O3厚度的Al/Al2O3/Ga2O3结构中的电场分布。(h)积分电场强度与Ga2O3厚度的关系。(i)Ga2O3厚度为20 nm 时的电场空间分布。
图2. PEN/Al/Al2O3/Ga2O3/graphene柔性光电探测器阵列。7×7光电探测器阵列示意图(a-i)和照片(a-ii)。(b)不同Ga2O3厚度的光电探测器的响应度。(c) Al/Al2O3/Ga2O3/graphene的能带结构图。
图3. Al/Al2O3/Ga2O3(20 nm)/graphene光电探测器的光电性能。(a)10 V偏压下的响应谱。(b)暗态和不同光强(254nm)下的I–V特性。(c)光电流随光强的幂指数拟合。(d)响应度和EQE与光强度的关系。(e)光电探测器的瞬态光响应。(f)光电探测器的周期稳定性。不同光强(g)和不同电压(h)下的I–t曲线。
图4. 柔性光电探测器阵列的电稳定性。(a)器件在暗态和254 nm光照射下不同弯曲角度的输出电流。(b)器件在不同弯折次数下的I–V和(c) I–t曲线。
图 5. 光电探测器阵列应用于光成像、光斑强度的空间分布和实时光轨迹检测。(a)各像素暗电流和光电流的统计结果。(b)探测器阵列的成像应用展示。(c)光电探测器的光斑强度空间分布检测演示。(d)探测器阵列的实时光轨迹检查演示。