郑州大学拥有的科技成果：

1.授权发明专利，一种用于光刻机的深蚀刻轮廓限缩对准方法，ZL202011443871.2。
2.授权发明专利，一种修正邻近效应造成曝光图形失真的方法，ZL202011442268.2。
3.授权发明专利，一种可见光修正步进紫外光曝光焦距的校正装置及方法，ZL202011442244.7。

所有成果完成人：

卫荣汉、李旺明、祈俊霞、陈晓阳、徐献忠、张玉东、田辉、邱京江、卫洪涛、杨潇楠、赵无垛、李姿琳、康克家、胡素梦、许雁雅、李世交、陈银玲、周克佳、赵东阳、姜泽武。

拟转化成果简介：

本成果围绕光刻工艺中制约图形转移精度的三类核心误差，形成了一套相互衔接的补偿与校正技术方案。 针对光学邻近效应引起的曝光图形失真，提出基于条件判断式规则的迭代修正方法，以像素单元比对方式逐次修正图形多余点与缺少点，直至修正图形的邻近效应模拟结果与目标图形一致。针对多道制程后对准标记破坏导致的对准精度下降，利用深蚀刻外围轮廓限缩粗对准范围，再结合自动影像辨识完成精对准，在提高对准速度的同时保障了精度。针对仅用可见光对焦的步进紫外光刻机存在焦距偏差，通过校正光罩与荧光基板分别在可见光和紫外光下确定对焦位置，建立焦距修正关系，有效降低曝光焦距误差。   三项技术分别覆盖图形保真、水平对位与垂直对焦环节，共同构成光刻过程中从掩模图形到物理对位的多源误差补偿链条，可应用于微纳加工、半导体制造及相关光刻装备的精度提升场景。

项目负责人：卫荣汉

拟转化形式：技术转让-专利权转让

意向受让方：郑州市增锦智能科技有限公司

经过该项科技成果让与方和意向受让方协商，上述科技成果拟转化价格为9万元。

根据相关国家法律法规和《郑州大学科技成果转化管理办法》，现对上述科技成果拟转化情况进行公示。同时，项目负责人已承诺本人及团队与受让方不存在利益关联。

公示时间：2026年10月20日至2026年11月3日（共15日）

公示期间，如有任何异议，请到郑州大学科学技术研究院（主校区综合管理中心422房间）或拨打电话0371-67781023反映。